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本品適用于晶體硅太陽能硅片線切割后對砂漿、硅粉及金屬離子的清洗,是一種非常優(yōu)秀的單組份硅片清洗劑。
適用范圍:清洗有機雜質(zhì)、無機雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,適用于各類硅晶片的清洗。
特性: 外觀:無色透明液體 密度,g/cm3(20±1℃):1.17±0.02 PH值(原液):9.0~10.5
使用方法:
(1) 根據(jù)清洗對象臟污程度,用軟、硬水稀釋為1%~2%的溶液使用。
(2) 常溫使用,配合超聲波清洗。在清洗硅晶片時,加熱至45℃~50℃,效果更佳。
(3) 必要時可適當延長清洗時間,提高使用濃度。
注意事項:
(1) 本品屬弱堿性,長期接觸請戴膠手套。
(2) 若不慎濺入眼中,立即用清水沖干凈。